本报讯 由中央美术学院、北京国际设计周与德国奥芬巴赫造型艺术大学联合主办的“北京媒体艺术双年展”日前在京举行新闻发布会,公布该展将于9月25日至10月9日在北京国际设计周期间于中华世纪坛和中央美术学院举办。该展旨在通过跨学科、跨领域的艺术与理论实践,生成公众和产业之间的对话界面。据双年展总策展人宋协伟介绍,该展将贯穿“技术伦理”的主题,围绕当下盛行的大数据、人工智能、虚拟现实、生物基因技术与元科学五大科技支柱,邀请国内外艺术家通过艺术作品探讨由技术引发的伦理问题。策展团队针对展览主题进行了详实的文献研究,并结合艺术作品共同为观众呈现具有可读性与参与性的媒体艺术展览。期间,中央美院将通过“Lab Space”实验空间,举办论坛、工作坊、大师班等,将双年展资源与学院教学整合,为广大学子及相关社群提供与艺术家交流的机会。
(天颖)